კვარცის ღუმელის მილი
დიდი ზომის კვარცის მილი
კვარცის ნავი
კვარცის ფირფიტა
კვარცის ლამპის დამჭერი
კვარცის ღერო
კვარცის ბეჭედი
კვარცის პროდუქტები ინდივიდუალურად შეკვეთით
პლაზმურად შედუღებული კვარცის ზოდები
კვარცის არარეგულარული ფორმის ფურცლები
კვარცის კრისტალის მომღერალი პირამიდა
ნახევრად თეთრი საფარით დაფარული მოკლეტალღოვანი ინფრაწითელი კვარცის გამათბობელი ნათურა
მაღალი ტემპერატურისადმი მდგრადი კვარცის ნათურების დამჭერები ჩინეთიდან მომწოდებლებისგან | ქარხანაში პირდაპირ სამრეწველო გამოყენებისთვის
პროდუქტიაღწერა
დამზადებულია 99.99%-ით მაღალი სისუფთავის გამდნარი სილიციუმისგან, ჩვენი დიდი დიამეტრის კვარცის მილი არ შეიცავს მინარევებს, რაც უზრუნველყოფს მინიმალურ თერმულ გაფართოებას და თერმული შოკის მიმართ მაქსიმალურ წინააღმდეგობას (უძლებს ტემპერატურის სწრაფ ცვლილებებს -20℃-დან 1200℃-მდე). ის არატოქსიკურია, არაფოროვანი და მდგრადია მჟავების უმეტესობის (გარდა ფტორწყალბადმჟავასი) და ტუტე ხსნარების მიმართ, რაც მას კოროზიული ქიმიური დამუშავებისთვის ვარგისს ხდის.
ძირითადი უპირატესობები- უმაღლესი თერმული სტაბილურობა: უწყვეტად მუშაობს 1100℃-ზე, ხანმოკლე გამოყენებისას 1450℃-მდე
- შესანიშნავი მექანიკური სიმტკიცე: მაღალი შეკუმშვის სიმტკიცე და დარტყმისადმი მდგრადობა, ბზარებისადმი მდგრადობა მონტაჟისა და გამოყენების დროს
- პერსონალიზაციის მხარდაჭერა: სიგრძეზე მოჭრილი, ფლანგიანი ბოლოები და გაბურღული ხვრელები ხელმისაწვდომია მომხმარებლის ნახაზების მიხედვით.
- ხანგრძლივი მომსახურების ვადა: მდგრადია დაბერებისა და დაჟანგვის მიმართ, თუნდაც მაღალი ტემპერატურის ხანგრძლივი ზემოქმედების დროს.
-
ნახევარგამტარული ინდუსტრია
ისინი ფართოდ გამოიყენება დიფუზიურ ღუმელებში, დაჟანგვის ღუმელებსა და იონური იმპლანტაციის მოწყობილობებში ვაფლის დამუშავებისთვის. კვარცის მილების მაღალი სისუფთავე და კოროზიისადმი მდგრადობა უზრუნველყოფს ნახევარგამტარული მასალების დაბინძურების თავიდან აცილებას მაღალტემპერატურულ პროცესებში. -
მზის ენერგიის სექტორი
ფოტოელექტრული უჯრედებისა და სილიკონის ვაფლების წარმოების ხაზზე გამოყენებისას, ისინი მაღალი ტემპერატურის სინთეზირებისა და საფარის აღჭურვილობის ძირითად კომპონენტებს წარმოადგენენ, რაც ხელს უწყობს მზის უჯრედების გარდაქმნის ეფექტურობის გაუმჯობესებას. -
მაღალი ტემპერატურის თერმული დამუშავება და მეტალურგია
გამოიყენება ღუმელის საფარებად და გამათბობელ კამერებად გამოწვის ღუმელებში, ჩაქრობის ღუმელებსა და შედუღების ღუმელებში, მათ შეუძლიათ გაუძლონ 1100℃-მდე უწყვეტ მაღალ ტემპერატურაზე მუშაობას და თერმული შოკისადმი მდგრადობას. -
ლაბორატორია და სამეცნიერო კვლევა
გამოიყენება მაღალი ტემპერატურის ქიმიურ რეაქტორებში, ვაკუუმურ მილებსა და ქიმიური ორთქლის დეპონირების (CVD) სისტემებში, შესაფერისია ისეთი მკაცრი ექსპერიმენტული გარემოსთვის, როგორიცაა ძლიერი მჟავა კოროზია და მაღალტემპერატურული პიროლიზი. -
ოპტიკურ-ბოჭკოვანი და ოპტოელექტრონიკის ინდუსტრია
ოპტიკურ-ბოჭკოვანი პრეფორმების წარმოებაში გამოიყენება როგორც დამცავი მილები და ხატვის ყალიბები, რაც უზრუნველყოფს ოპტიკურ-ბოჭკოვანი მასალების სისუფთავეს და ერთგვაროვნებას მაღალტემპერატურულ ხატვის პროცესში. -
გარემოს დაცვა და ნარჩენების დამუშავება
გამოიყენება მაღალი ტემპერატურის ნარჩენი აირების ინსინერატორებსა და სახიფათო ნარჩენების დამუშავების მოწყობილობებში, მათი მაღალტემპერატურული მდგრადობისა და ქიმიური სტაბილურობის გამოყენებით მავნე ნივთიერებების დასაშლელად.
პროდუქტის სპეციფიკაციები
ტექნიკური მახასიათებლები და მექანიკური თვისებები
| მექანიკური ქცევა | სტანდარტული მნიშვნელობები |
|---|---|
| სიმჭიდროვე | 2.2 გ/სმ³ |
| შეკუმშვის სიმტკიცე | 1100 მპა მაღალი |
| მოხრის სიმტკიცე | 67 მპა |
| პუასონის თანაფარდობა | 0.14 ~ 0.17 |
| იანგის მოდული | 72,000 მპა |
| სიხისტის მოდული | 31,000 მპა |
| მოჰსის სიმტკიცე | 5.5 ~ 6.5 |
| ტრანსფორმაციის წერტილი | 1280 °C |
| დარბილების წერტილი | 1780 °C ულტრა მაღალი |
| გაცხელების წერტილი | 1250 °C |
| სპეციფიკური სითბო (20 ~ 350 °C) | 670 ჯ/კგ·°C |
| თბოგამტარობა (20 °C) | 1.4 ვტ/მ·°C |
| რეფრაქციული ინდექსი | 1.4585 |
| დაბალი თერმული გაფართოების კოეფიციენტი | 5.5 × 10⁻⁷ სმ/სმ·°C |
| თერმული დამუშავების ტემპერატურა | 1750 ~ 2050 °C |
| ხანმოკლე გამოყენების ტემპერატურა | 1300 °C |
| ხანგრძლივი გამოყენების ტემპერატურა | 1100 °C |
| მასალა | სილიციუმის დიოქსიდი (ბუნებრივი კვარცი) |
| ფერი | გამჭვირვალე ან უფერო |
| ზედაპირი | ჰაერის ბუშტის გარეშე, ხაზის გარეშე |
| დაძაბულობა | 1270°C გამდნარი კვარცის მინის აგური |
| PPM კლასი | კონტროლირებადი 10 / 20 / 100 PPM |
| ფორმა | წრე |
| სისქე | 2 მმ – 20 მმ |
ხშირად დასმული კითხვები
ამ კვარცის მინას შეუძლია გაუძლოს 1300°C-მდე მოკლევადიანი გამოყენების ტემპერატურას და 1100°C-მდე ხანგრძლივი გამოყენების ტემპერატურას, რაც მას მაღალტემპერატურულ სამრეწველო გამოყენებისთვის შესაფერისს ხდის.
კვარცის მინა დამზადებულია ბუნებრივი კვარციდან მიღებული სილიციუმის დიოქსიდისგან (SiO₂), რაც უზრუნველყოფს მაღალ სისუფთავეს და შესანიშნავ ოპტიკურ და თერმულ მახასიათებლებს.
კვარცის მინა ხელმისაწვდომია 2 მმ-დან 20 მმ-მდე სისქით, რაც მოქნილობას გვთავაზობს სხვადასხვა საინჟინრო და ოპტიკური სისტემის მოთხოვნების დასაკმაყოფილებლად.
კვარცის მინა ხელმისაწვდომია კონტროლირებადი სისუფთავის 10 PPM, 20 PPM და 100 PPM კლასებში, რაც მომხმარებლებს საშუალებას აძლევს აირჩიონ შესაბამისი სისუფთავის დონე მათი კონკრეტული გამოყენების საჭიროებების მიხედვით.
5.5 × 10⁻⁷ სმ/სმ·°C უკიდურესად დაბალი თერმული გაფართოების კოეფიციენტი ნიშნავს, რომ კვარცის მინა მინიმალურ განზომილებიან ცვლილებას განიცდის ტემპერატურის რყევების დროს, რაც მას იდეალურს ხდის ზუსტი ოპტიკური კომპონენტებისთვის, ლაბორატორიული აღჭურვილობისა და ნახევარგამტარების წარმოების გარემოსთვის.
დიახ. კვარცის მინა დამზადებულია მკაცრი ხარისხის სტანდარტებით, რაც უზრუნველყოფს ჰაერის ბუშტებისა და ხაზებისგან თავისუფალ ზედაპირს, რაც კრიტიკულად მნიშვნელოვანია მაღალი ოპტიკური სიწმინდისა და სტრუქტურული მთლიანობის მოთხოვნით.
შეფუთვა და მიწოდება
რატომ უნდა აირჩიოთ სამხრეთ-აღმოსავლეთის კვარცი?
„სამხრეთ-აღმოსავლეთ კვარცი“ ეყრდნობა დონჰაის ოლქში არსებულ უმაღლესი ხარისხის კვარცის მადნის რესურსებს, აქტიურად არის ჩართული კვარცის მინის ღრმა დამუშავებაში და გლობალური მომხმარებლების ძირითადი მიმწოდებელი გახდა. სტაბილური მუშაობის, მინარევებისა და გაჟონვის თავიდან ასაცილებლად, ქარხნიდან გასვლამდე ყველა პროდუქტი გადის მრავალრიცხოვან ტესტებს, როგორიცაა ჰელიუმის მას-სპექტრომეტრიული გაჟონვის აღმოჩენა, წნევის წინააღმდეგობის ტესტი და სისუფთავის ტესტი.
გამოცდილების
Contact Us
We strive to provide customers with quality products. Request Information, Sample & Quote, Contact us!